特許
J-GLOBAL ID：200903086677189450
プラズマ処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
武 顕次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-173129
公開番号（公開出願番号）：特開平7-029888
出願日： 1993年07月13日
公開日（公表日）： 1995年01月31日
要約：
【要約】【目的】 プラズマ処理装置の試料支持体に供給される高周波電力による高周波電界により発熱体導体に過大な誘導電流が流れるのを防止する。【構成】 真空容器1は、試料2を保持する試料支持体3と該試料支持体3を加熱又は保温する発熱体8とを内装する。試料支持体3と発熱体8の間にはア-スシ-ルド11を設けると共に該アースシールド11と試料支持体3の間には絶縁壁12が設けられる。高周波電源4から試料支持体3に供給される高周波電力によって発生する高周波電界はア-スシ-ルド11により遮断されるので発熱体8の導線に高周波誘導電流が発生しない。また、絶縁壁12は、試料支持体3とアースシールド11の間のアーク放電やグロー放電の発生を防止する。
請求項（抜粋）：
試料を保持する試料支持体と、該試料支持体を加熱又は保温する発熱体と、前記試料支持体及び発熱体を収納する真空容器と、該真空容器内を排気する排気系と、該真空容器内に反応ガスを導入するガス導入系とを備え、前記試料支持体に高周波電力を印加するプラズマ処理装置において、前記試料支持体と発熱体の間にア-スシ-ルドを設けると共に該試料支持体とアースシールドの間に絶縁壁を設けたことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/3065
, H01L 21/203
, H01L 21/205
