特許
J-GLOBAL ID:200903086677217437
光触媒組成物およびその製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
泉名 謙治
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-242325
公開番号(公開出願番号):特開平10-085599
出願日: 1996年09月12日
公開日(公表日): 1998年04月07日
要約:
【要約】【課題】触媒活性が充分で、かつ、高強度の光触媒組成物およびその製造方法の提供。【解決手段】塩基性触媒存在下でオルガノアルコキシシランを加水分解して形成したシリカゾルより得られるシリカが半導体光触媒に分散された光触媒組成物およびその製造方法。
請求項(抜粋):
塩基性触媒存在下でオルガノアルコキシシランを加水分解して形成したシリカゾルより得られるシリカが半導体光触媒に分散された光触媒組成物。
IPC (14件):
B01J 21/08
, B01D 53/86
, B01D 53/86 ZAB
, B01J 21/06 ZAB
, B01J 23/02 ZAB
, B01J 23/06 ZAB
, B01J 23/08 ZAB
, B01J 23/14 ZAB
, B01J 23/16 ZAB
, B01J 23/745
, B01J 27/24
, B01J 31/02 102
, B01J 35/02
, B01J 37/04 102
FI (14件):
B01J 21/08 M
, B01J 21/06 ZAB M
, B01J 23/02 ZAB M
, B01J 23/06 ZAB M
, B01J 23/08 ZAB M
, B01J 23/14 ZAB M
, B01J 23/16 ZAB M
, B01J 27/24 M
, B01J 31/02 102 M
, B01J 35/02 J
, B01J 37/04 102
, B01D 53/36 H
, B01D 53/36 ZAB J
, B01J 23/74 301 M
引用特許:
前のページに戻る