特許

J-GLOBAL ID：200903086687558704

電子線照射用被処理物搬送装置

発明者： 柏木 正之 ,  矢田 洋三
出願人/特許権者： 日新ハイボルテージ株式会社
代理人 (1件)： 川崎 勝弘 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-155662
公開番号（公開出願番号）：特開平10-312764
出願日： 1997年05月10日
公開日（公表日）： 1998年11月24日
要約：

【要約】【課題】 被処理物を配置したトレー等の容器に不活性ガスを注入する手間を削減し、電子線照射処理の生産性を高めることのできる電子線照射用被処理物搬送装置を提供すること。【解決手段】 内部に被処理物を配置する容器と前記容器を載置して電子線照射領域へ搬送する水冷板とを備えてなる電子線照射用被処理物搬送装置において、前記水冷板22に貫通孔25を形成し、該貫通孔25に開閉弁29を有する不活性ガス供給口金26を取り付け、一方前記容器21に前記水冷板22の貫通孔25に嵌合する貫通孔23を形成し、該貫通孔23内に前記開閉弁29を開く操作突起24を設け、前記水冷板22上に前記容器21を載置することにより開閉弁29を開き、前記容器21内に不活性ガスを注入する。

請求項（抜粋）：

内部に被処理物を配置する容器と前記容器を載置して電子線照射領域へ搬送する水冷板とを備えてなる電子線照射用被処理物搬送装置において、前記水冷板に不活性ガスを供給する開閉弁を取り付けるとともに、前記容器に前記開閉弁を開操作する操作体を設け、前記水冷板に前記容器を載置することにより前記開閉弁を開操作して前記容器内に不活性ガスを注入可能にしてなることを特徴とする電子線照射用被処理物搬送装置。