特許

J-GLOBAL ID：200903086690864476

薄膜コーティング方法および薄膜コーティング装置

発明者： 小保内 文昭
出願人/特許権者： エヌイーシートーキン株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-289137
公開番号（公開出願番号）：特開2003-093955
出願日： 2001年09月21日
公開日（公表日）： 2003年04月02日
要約：

【要約】【課題】 ウエハに凹凸があっても薄膜原料をウエハ均一に塗布し、塗布不良を発生させないで、またコストの高い樹脂膜やレジストなどの使用量を、比較的少量にできるの薄膜コーティング方法を得る。【解決手段】 ウエハ1上にスピン方式で薄膜原料をコーティングする薄膜コーティング方法において、ウエハ回転前の薄膜原料2の滴下時に、前記薄膜原料2をウエハ上に螺旋状に塗布し、ウエハを回転させる薄膜コーティング方法とする。

請求項（抜粋）：

ウエハ上にスピン方式で薄膜原料をコーティングする薄膜コーティング方法において、ウエハ回転前の薄膜原料滴下時に、前記薄膜原料をウエハ上に螺旋状に塗布し、ウエハを回転させることを特徴とする薄膜コーティング方法。

IPC (3件)：

B05C 11/08 ,  B05D 1/40 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

B05C 11/08 ,  B05D 1/40 A ,  H01L 21/30 564 D

Fターム (25件)：

4D075AC64 ,  4D075AC79 ,  4D075AC84 ,  4D075AC92 ,  4D075AC93 ,  4D075BB92Z ,  4D075CA48 ,  4D075DA08 ,  4D075DB14 ,  4D075DC22 ,  4D075EA45 ,  4F042AA07 ,  4F042AB00 ,  4F042BA08 ,  4F042BA25 ,  4F042CB00 ,  4F042DD41 ,  4F042DF09 ,  4F042DF28 ,  4F042DF32 ,  4F042EB05 ,  4F042EB09 ,  4F042EB18 ,  5F046JA01 ,  5F046JA27