特許
J-GLOBAL ID:200903086692702775
光触媒とその製造方法および有害物質の分解・除去方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
森 道雄 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-225961
公開番号(公開出願番号):特開平10-305230
出願日: 1997年08月22日
公開日(公表日): 1998年11月17日
要約:
【要約】【課題】高い光触媒活性を有し、調製の際の低温から高温まで広い温度域での焼成条件下でその活性を維持しうる光触媒とその製造方法およびその光触媒を用いた有害物質の分解・除去方法を提供する。【解決手段】二酸化チタン粒子中にストロンチウム、ハフニウム、亜鉛、ホウ素、マグネシウムおよびバリウムから選ばれた少なくとも一種の金属の酸化物が分散している光触媒。この光触媒に有害物質を接触させた状態で高エネルギーの光を照射すれば有害物質の分解・除去に効果的である。この光触媒は、二酸化チタンまたはその前駆対物質と、前記金属から選ばれた少なくとも一種の金属の酸化物またはその前駆体物質とを接触させて得られた生成物を250〜800°Cで焼成することにより得られる。各種金属材料、セラミック、陶磁器、ガラス、樹脂、木材、活性炭等、広範囲にわたる材料(支持体)に固定化することもできる。
請求項(抜粋):
二酸化チタン粒子中にストロンチウム、ハフニウム、亜鉛、ホウ素、マグネシウムおよびバリウムから選ばれた少なくとも一種の金属の酸化物が分散していることを特徴とする光触媒。
IPC (9件):
B01J 35/02 ZAB
, B01D 53/86
, B01J 21/06
, B01J 21/10
, B01J 23/02
, B01J 23/06
, B01J 37/08
, C02F 1/32
, A61L 2/08
FI (9件):
B01J 35/02 ZAB J
, B01J 21/06 M
, B01J 21/10 M
, B01J 23/02 M
, B01J 23/06 M
, B01J 37/08
, C02F 1/32
, A61L 2/08
, B01D 53/36 J
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