特許
J-GLOBAL ID：200903086694143994
非導電性基板への回路形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
下出 隆史 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-285852
公開番号（公開出願番号）：特開平7-115338
出願日： 1993年10月19日
公開日（公表日）： 1995年05月02日
要約：
【要約】【目的】 水晶等の透光性の基板の表裏面に電極等の回路を形成する際の工数を低減するとともに品質の向上を図る。【構成】 水晶基板から形成した振動ジャイロ80の表裏面(上下面)に電極を形成するに当たり、まず、各振動片の表裏面にクロム薄膜102,金薄膜104を蒸着により形成する。その後、振動ジャイロ80の上面側からYAGレーザをレンズで収束して照射する。この際、レーザの焦点fを各振動片86,92の上下面の中間位置に位置させる。従って、YAGレーザの入射側の各振動片の上面では、レーザが照射される範囲に限ってその部分のクロム薄膜102,金薄膜104が溶融・蒸発し、各振動片からYAGレーザが出射する側の各振動片の下面でも、レーザが出射する範囲に限ってその部分のクロム薄膜102,金薄膜104が溶融・蒸発する。
請求項（抜粋）：
所定波長の電磁波に対する透過性を有する非導電性基板の表面に回路を形成する回路形成方法において、前記非導電性基板における平行な二つの対向面の各面に導電性金属の薄膜を形成する工程と、前記非導電性基板を透過する性質を有し焦点に収束するよう照射された場合には前記薄膜の溶融・蒸発が可能な前記電磁波を照射する電磁波照射機器を準備する工程と、前記薄膜形成済みの非導電性基板を前記電磁波が当該基板の前記二つの対向面の一方の側から照射される位置に配置し、前記電磁波を収束して照射した際の焦点が前記二つの対向面の間に位置するよう前記非導電性基板と前記電磁波照射機器との相対位置を調整する工程と、前記電磁波を前記非導電性基板に向けて照射しつつ、前記非導電性基板における電磁波の照射位置を前記回路のパターンに応じて移動する工程とを備えることを特徴とする非導電性基板への回路形成方法。
IPC (3件)：
H03H 3/02
, G01C 19/56
, G01P 9/04
