特許
J-GLOBAL ID:200903086694146225

プラズマエッチング電極、その治具及びそれらの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小林 雅人 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-265773
公開番号(公開出願番号):特開平7-099183
出願日: 1993年09月28日
公開日(公表日): 1995年04月11日
要約:
【要約】【目的】 従来技術の問題点を解消し、緻密且つ均質な組織を有し、しかもプラズマエッチング加工をする際に粒体が脱落して消耗を早めたり、ウエハを汚損してパターン形成を阻害したりすることのないプラズマエッチング電極及びその治具を提供する。【構成】 本発明のプラズマエッチング電極及び治具は、炭素化されたポリカルボジイミド樹脂により被覆されていることを特徴とするものであり、又、その製造方法の発明は、プラズマエッチング電極及び治具をポリカルボジイミド樹脂により被覆し、次いで不活性雰囲気中で前記ポリカルボジイミド樹脂を炭素化することを特徴とする。
請求項(抜粋):
炭素化されたポリカルボジイミド樹脂により被覆されていることを特徴とするプラズマエッチング電極及び治具。
IPC (2件):
H01L 21/3065 ,  C23F 4/00
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 特開平2-277233
  • 特開平4-209781

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