特許

J-GLOBAL ID：200903086696800216

カルボシロキサンデンドリマー

発明者： 吉武 誠 ,  小野寺 哲
出願人/特許権者： 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-048512
公開番号（公開出願番号）：特開2000-239390
出願日： 1999年02月25日
公開日（公表日）： 2000年09月05日
要約：

【要約】【課題】 シロキサン結合とシルアルキレン結合が交互に配列した高分岐構造を有し、分子量分布が狭く、かつ、分子中に1個の非ラジカル重合性の置換炭化水素基を含有する新規なカルボシロキサンデンドリマーを提供する。【解決手段】 一般式:【化1】{式中、Yは非ラジカル重合性の置換炭化水素基であり、R1は炭素原子数1〜10のアルキル基もしくはアリール基であり、bは0〜50であり、cは1〜3であり、X1はi=1とした場合の次式で示されるシリルアルキル基である。【化2】(式中、R1は前記と同じであり、R2は炭素原子数2〜10のアルキレン基であり、R3は炭素原子数1〜10のアルキル基であり、Xi+1は水素原子,炭素原子数1〜10のアルキル基,アリール基および上記シリルアルキル基からなる群から選択される基である。iは該シリルアルキル基の階層を示している1〜10の整数であり、aiは0〜3であるが、一分子中に存在する少なくとも1個のX1中のa1は0〜2である。)}で示されるカルボシロキサンデンドリマー。

請求項（抜粋）：

一般式:【化1】{式中、Yは非ラジカル重合性の置換炭化水素基であり、R1は炭素原子数1〜10のアルキル基もしくはアリール基であり、bは0〜50であり、cは1〜3であり、X1はi=1とした場合の次式で示されるシリルアルキル基である。【化2】(式中、R1は炭素原子数1〜10のアルキル基もしくはアリール基であり、R2は炭素原子数2〜10のアルキレン基であり、R3は炭素原子数1〜10のアルキル基であり、Xi+1は水素原子,炭素原子数1〜10のアルキル基,アリール基および上記シリルアルキル基からなる群から選択される基である。iは該シリルアルキル基の階層を示している1〜10の整数であり、aiは0〜3であるが、一分子中に存在する少なくとも1個のX1中のa1は0〜2である。)}で示されるカルボシロキサンデンドリマー。

Fターム (16件)：

4J035BA02 ,  4J035CA02U ,  4J035CA021 ,  4J035CA061 ,  4J035CA14N ,  4J035CA14U ,  4J035CA141 ,  4J035HA01 ,  4J035HB02 ,  4J035HB03 ,  4J035HB05 ,  4J035HB10 ,  4J035LA02 ,  4J035LB01 ,  4J035LB07 ,  4J035LB18