特許

J-GLOBAL ID：200903086705383755

薄膜磁気ヘッドの製造方法

発明者： 工藤 一恵 ,  岡田 智弘
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-338510
公開番号（公開出願番号）：特開平9-180130
出願日： 1995年12月26日
公開日（公表日）： 1997年07月11日
要約：

【要約】【課題】磁気効果型ヘッドでヘッドの歩留まりを向上させ、高密度化,高出力化を容易に実現できるMRヘッドを得る。【解決手段】感磁部に信号検出電流を流すための一対の電極3を導電性樹脂1で短絡し、研磨加工,組立てを行う。これにより、作業中の静電破壊が防止できる。この樹脂は作業終了時に有機系溶剤で洗浄することができる。一方、上部シールド膜7と電極3の一方と下部シールド膜4をスルーホール内の導電性樹脂1により電気的に短絡することにより、上部ギャップ膜6または下部ギャップ膜5に静電気によるピンホールは生成しない。

請求項（抜粋）：

磁気抵抗効果を用いて磁気的信号を電気的信号に変換する磁気抵抗効果膜と、前記磁気抵抗効果膜の近くに位置し磁気分離膜によって前記磁気抵抗効果膜と磁気的に分離された軟磁性膜と、前記磁気抵抗効果膜に信号検出電流を流すための一対の電極と、前記磁気抵抗効果膜の磁区を制御する磁区制御層とを有し、これらの積層膜の上部及び下部に磁気シールド膜を有する磁気抵抗効果型ヘッドの製造方法において、ヘッドの加工工程中、導電性樹脂により端子間を常に短絡していることを特徴とする磁気抵抗効果型ヘッドの製造方法。