特許
J-GLOBAL ID:200903086706796000
酸素透過用構造体及び酸素製造装置
発明者:
,
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
加茂 裕邦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-101805
公開番号(公開出願番号):特開2002-292234
出願日: 2001年03月30日
公開日(公表日): 2002年10月08日
要約:
【要約】【課題】初期性能だけでなく、特に耐久性に優れた酸素透過性構造体、これを用いた酸素製造装置および酸素製造システムを得る。【解決手段】La、Sr、GaおよびFeを含む複合酸化物からなるイオン導電体材料の薄膜の表面または両面にLa、Sr、CoおよびFeを含む複合酸化物からなるイオン導電体材料の薄膜を配置してなる積層体を多孔質の支持体に固定してなることを特徴とする酸素透過用構造体、これを用いた酸素製造装置および酸素製造システム。
請求項(抜粋):
La、Sr、GaおよびFeを含む複合酸化物からなるイオン導電体材料の薄膜の表面にLa、Sr、CoおよびFeを含む複合酸化物からなるイオン導電体材料の薄膜を配置してなる積層体を多孔質の支持体に固定してなることを特徴とする酸素透過用構造体。
IPC (5件):
B01D 53/22
, B01D 71/02 500
, B32B 9/00
, C01B 13/02
, C01G 49/00
FI (5件):
B01D 53/22
, B01D 71/02 500
, B32B 9/00 A
, C01B 13/02 Z
, C01G 49/00 A
Fターム (44件):
4D006GA41
, 4D006HA27
, 4D006JA02Z
, 4D006JA15Z
, 4D006JA18Z
, 4D006JA19Z
, 4D006JA25Z
, 4D006JA53Z
, 4D006JA66Z
, 4D006MA02
, 4D006MA06
, 4D006MB07
, 4D006MB17
, 4D006MC03X
, 4D006PB17
, 4D006PB62
, 4D006PC71
, 4F100AA23A
, 4F100AA23B
, 4F100AA32B
, 4F100AA33A
, 4F100BA03
, 4F100BA07
, 4F100BA10A
, 4F100BA10C
, 4F100DA11
, 4F100DJ00C
, 4F100GB66
, 4F100JD03
, 4F100JG01A
, 4F100JG01B
, 4F100JM02A
, 4F100JM02B
, 4G002AA06
, 4G002AA10
, 4G002AB01
, 4G002AD02
, 4G002AE05
, 4G042BA13
, 4G042BA15
, 4G042BA30
, 4G042BB02
, 4G042BC04
, 4G042BC05
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