特許
J-GLOBAL ID：200903086706866512
塗布装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
樺澤 襄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-347362
公開番号（公開出願番号）：特開平6-190326
出願日： 1992年12月25日
公開日（公表日）： 1994年07月12日
要約：
【要約】【目的】 基板の塗布膜厚の均一性を保持できる塗布装置を提供する。【構成】 塗布液を塗布する場合は、昇降機構49により回転軸36を下降させ、閉塞部37にて挿通孔31を閉塞するとともに、平板部38にて開口30を閉塞する。洗浄液ノズル41,42はそれぞれリンス経路43,43に連通し、リンス液をリンスノズル44,44から基板Bの裏面に吐出する。クラッチ58を接続しているため、リンスノズル44は回転カップ1と同期して回転駆動する。Oリング45,46,47によりシールして、外気の侵入およびリンス液の漏出を防止する。回転カップ1の洗浄動作は、洗浄液ノズル41,42をリンス経路43,43から切り離した状態で洗浄液を吐出する。上蓋14を閉塞したままの状態で回転カップ1を低速回転する。クラッチ58を切り離しているため、リンスノズル44は回転カップ1と同期せず停止しているため、回転カップ1内を全体的に洗浄できる。
請求項（抜粋）：
被塗布体を保持固定するとともに高速回転駆動される回転ステージと、この回転ステージと一体的に高速回転駆動し前記被塗布体を収納するチャンバーと、前記チャンバーの下部に設けられ前記チャンバーの内部に出し入れ可能な洗浄液ノズルとを具備したことを特徴とする塗布装置。
IPC (5件)：
B05C 11/08
, G02F 1/13 101
, G02F 1/1333 500
, G03F 7/16 502
, H01L 21/027
