特許

J-GLOBAL ID：200903086711657000

ネガ型レジスト組成物

発明者： 阿出川 豊
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-095475
公開番号（公開出願番号）：特開2003-295437
出願日： 2002年03月29日
公開日（公表日）： 2003年10月15日
要約：

【要約】【課題】 活性放射線(電子線、X線又はEUV)によるパターン形成において、高感度、高解像力で、現像欠陥が低減されたネガ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 (A)アルカリ可溶性樹脂、(B)活性放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、(C)架橋剤を含有するネガ型レジスト組成物において、該アルカリ可溶性樹脂がグラフトポリマーであることを特徴とするレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)アルカリ可溶性樹脂、(B)活性放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、(C)架橋剤を含有するネガ型レジスト組成物において、該アルカリ可溶性樹脂がグラフトポリマーであることを特徴とするネガ型レジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/038 601 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/038 601 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (9件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BE00 ,  2H025CC17