特許

J-GLOBAL ID：200903086713629542

レジスト用樹脂、化学増幅型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法

発明者： 藤原 匡之 ,  脇阪 幸也 ,  村田 直志
出願人/特許権者： 三菱レイヨン株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-198164
公開番号（公開出願番号）：特開2001-022075
出願日： 1999年07月12日
公開日（公表日）： 2001年01月26日
要約：

【要約】【課題】 高いドライエッチング耐性を有するDUVエキシマレーザーリソグラフィーあるいは電子線リソグラフィーに好適なレジスト用樹脂および化学増幅型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 酸によりアルカリ水溶液に可溶となるレジスト用樹脂であって、式(1)、(2)および(3)から選ばれる少なくとも1種の構造を有する単量体単位が含まれていることを特徴とするレジスト用樹脂。【化7】(Rは水素原子またはアルキル基、nは0〜10の整数)【化8】(Rは水素原子またはアルキル基、nは0〜10の整数)【化9】(Rは水素原子またはアルキル基、mは0〜3の整数、nは0〜10の整数)

請求項（抜粋）：

酸によりアルカリ水溶液に可溶となるレジスト用樹脂であって、式(1)、(2)および(3)から選ばれる少なくとも1種の構造を有する単量体単位が含まれていることを特徴とするレジスト用樹脂。【化1】(Rは水素原子またはアルキル基、nは0〜10の整数)【化2】(Rは水素原子またはアルキル基、nは0〜10の整数)【化3】(Rは水素原子またはアルキル基、mは0〜3の整数、nは0〜10の整数)

IPC (3件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F 24/00 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F 24/00 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (40件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB30 ,  2H025CB52 ,  2H025FA29 ,  2H025FA30 ,  2H025FA41 ,  4J100AB07P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL10Q ,  4J100AR28Q ,  4J100BA02P ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA04P ,  4J100BA11R ,  4J100BA16Q ,  4J100BA20P ,  4J100BC04Q ,  4J100BC07Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC53P ,  4J100BC53Q ,  4J100BC53R ,  4J100BC54Q ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭54-029627
  
• アルカリ可溶性樹脂及びそれを用いた画像形成用材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-126012   出願人：新日鐵化学株式会社, 新日本製鐵株式会社
• 放射線硬化型液状樹脂
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-238813   出願人：東洋インキ製造株式会社
• 水性樹脂分散液
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-270848   出願人：ダイセル化学工業株式会社