特許
J-GLOBAL ID：200903086732959375
レチクル及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-145114
公開番号（公開出願番号）：特開平5-088347
出願日： 1991年06月18日
公開日（公表日）： 1993年04月09日
要約：
【要約】【目的】本発明は、位相シフトレチクルに関し、位相シフタの欠陥の修復が容易な位相シフトレチクルとその製造方法を提供することを目的とする。【構成】光透過領域を、光の入射方向に略垂直な第1表面を有する第1の透過領域と、第1表面に略平行かつ第1表面とは高さが異なる第2表面を有する第2の透過領域と、第1表面に略平行かつ第1および第2表面とは高さが異なる第3表面を有する第3の透過領域とを具備するように形成し、そして、第1の透過領域を透過する第1の光は、第2の透過領域を透過する第2の光とはその位相を異にし、かつ、第3の透過領域を透過する第3の光とは実質的に同一の位相となるように形成して構成する。
請求項（抜粋）：
透明基板上に形成された遮光膜によって画定されてなる光透過領域を有するレチクルであって、該光透過領域は、光の入射方向に略垂直な第1表面を有する第1の透過領域と、第1表面に略平行かつ第1表面とは高さが異なる第2表面を有する第2の透過領域と、第1表面に略平行かつ第1および第2表面とは高さが異なる第3表面を有する第3の透過領域を具備してなり、第1の透過領域を透過する第1の光は、第2の透過領域を透過する第2の光とはその位相を異にし、かつ、第3の透過領域を透過する第3の光とは実質的に同一の位相となるように構成されてなることを特徴とするレチクル。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 301 P
, H01L 21/30 311 W
