特許
J-GLOBAL ID:200903086744062974
シリカ系被膜形成用塗布液
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
阿形 明 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-330535
公開番号(公開出願番号):特開2001-131479
出願日: 1995年11月16日
公開日(公表日): 2001年05月15日
要約:
【要約】【課題】 熱処理時のガス発生に起因するトラブルのない、しかも保存安定性の良好な、微細配線パターンの形成に十分に対応できるシリカ系被膜形成用塗布液を提供する。【解決手段】 アルキレングリコールジアルキルエーテル中でのトリアルコキシシランの酸触媒加水分解生成物を含有する溶液から成り、溶媒除去後の被膜形成成分が熱重量測定に際し、重量増加を示し、また赤外吸収スペクトルにおいて、3000cm-1付近にアルコキシ基に起因するピークを有しないシリカ系被膜形成用塗布液とする。
請求項(抜粋):
アルキレングリコールジアルキルエーテル中でのトリアルコキシシランの酸触媒加水分解生成物を含有する溶液から成り、溶媒除去後の被膜形成成分が熱質量測定に際し、質量増加を示すことを特徴とするシリカ系被膜形成用塗布液。
引用特許:
審査官引用 (13件)
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酸化ケイ素系被膜形成用塗布液
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-244052
出願人:東京応化工業株式会社
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特開平4-216827
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特開平4-216827
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特開昭59-066422
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特開昭59-066422
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特開平4-275337
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特開平4-275337
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特開平4-216827
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特開昭59-066422
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特開平4-275337
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特開平4-216827
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特開昭59-066422
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特開平4-275337
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