位相空間光変調方法および位相空間光変調素子

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：谷義一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-064694
公開番号（公開出願番号）：特開平10-260428
出願日： 1997年03月18日
公開日（公表日）： 1998年09月29日
要約：

【要約】【課題】位相空間光変調素子の構成を簡単にし、かつ、応答速度を速める。【解決手段】最大直径が150nm以下の液晶微粒子が分散し、垂直入射光に対して光学的に等方的な光透過性媒体に垂直方向の電界を印加して、光透過性媒体の屈折率を変化させて、媒体の面内方向に屈折率分布を生じさせる工程、および光を光透過性媒体に垂直に入射し、媒体からの反射光あるいは媒体を透過する光の位相を変調する工程を有する。

請求項（抜粋）：

最大直径が150nm以下の液晶微粒子が分散し、垂直入射光に対して光学的に等方的な光透過性媒体に垂直方向の電界を印加し、前記光透過性媒体の屈折率を変化させて前記媒体の面内方向に屈折率分布を生じさせる工程、および光を前記光透過性媒体に垂直に入射し、前記媒体からの反射光あるいは前記媒体を透過する光の位相を変調する工程を有することを特徴とする位相空間光変調方法。

IPC (3件)：

G02F 1/135 , G02F 1/1333 , G09F 9/35 305

FI (3件)：

G02F 1/135 , G02F 1/1333 , G09F 9/35 305

前のページに戻る