特許

J-GLOBAL ID：200903086755522713

ポリオルガノシランの製造方法

発明者： 壁田 桂次 ,  若松 茂 ,  今井 高史
出願人/特許権者： 東芝シリコーン株式会社
代理人 (1件)： 津国 肇 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-029306
公開番号（公開出願番号）：特開平7-238171
出願日： 1994年02月28日
公開日（公表日）： 1995年09月12日
要約：

【要約】【構成】 1分子中に少なくとも2個の置換もしくは非置換のヒドロカルビルオキシ基を有するジシラン化合物を、触媒の存在下に不均化反応させてポリオルガノシランを製造する方法において、触媒として、有機アルカリ金属化合物と置換もしくは非置換のヒドロカルビルオキシ基を含有するジシラン化合物および/またはシラン化合物との反応生成物を用いるポリオルガノシランの製造方法。【効果】 簡単な操作で高活性の触媒を調製し、それを用いてポリオルガノシランを製造できる。また、ポリオルガノシランに各種の置換基を容易に導入できる。

請求項（抜粋）：

1分子中に少なくとも2個の置換もしくは非置換のヒドロカルビルオキシ基を有するジシラン化合物を、触媒の存在下に不均化反応させてポリオルガノシランを製造する方法において、触媒として、一般式:RM(Rは置換または非置換の1価の炭化水素基を表し、Mはアルカリ金属を表す)で示される有機アルカリ金属化合物と置換もしくは非置換のヒドロカルビルオキシ基を含有するジシラン化合物および/またはシラン化合物との反応生成物を用いることを特徴とする、ポリオルガノシランの製造方法。