特許
J-GLOBAL ID：200903086756553590
位相差フィルムの製造方法およびその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
前田 純博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-178354
公開番号（公開出願番号）：特開平11-019954
出願日： 1997年07月03日
公開日（公表日）： 1999年01月26日
要約：
【要約】【課題】 厚み、レターデーションの範囲、並びに微小な範囲のレターデーションの斑が小さく、遅相軸の大きさも小さく良好でかつ均一性に優れており、また透明性に優れ、スクラッチや擦り傷が無い、光学用途に好適な高分子の位相差フィルムを製造する。【解決手段】 高分子の溶液を支持体上に流延し、液膜を形成し支持体より剥離して乾燥した後、一軸延伸し、冷却して位相差フィルムを製造する方法において、該一軸延伸を第1段階の延伸および第2段階の延伸で行ない、かつ該第2段階の延伸を該第1段階の延伸の温度よりも1〜20°C高い温度で行って位相差フィルムを製造する。
請求項（抜粋）：
(1)高分子溶液を支持体上に流延し、(2)形成された溶媒含有フィルムを支持体より剥離して、(3)乾燥した後、(4)一軸延伸し、位相差フィルムを製造する方法において、該一軸延伸工程(4)を第1段階の延伸および第2段階の延伸で行ない、かつ該第2段階の延伸の温度が該第1段階の延伸の温度よりも1〜20°C高いことを特徴とする位相差フィルムの製造方法。
IPC (5件)：
B29C 41/24
, B29C 55/02
, G02B 5/30
, B29K 69:00
, B29L 11:00
B29C 41/24
, B29C 55/02
, G02B 5/30
