特許
J-GLOBAL ID：200903086764518354
周期性パターン検査装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小野 由己男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-102415
公開番号（公開出願番号）：特開平6-308046
出願日： 1993年04月28日
公開日（公表日）： 1994年11月04日
要約：
【要約】【目的】 簡単な構成でパターンの欠陥が正確に判別できるようにする。【構成】 周期性パターン検査装置1は、配列された複数の周期性パターンを有するシャドウマスク30に向けて光を照射するための発光部3と、シャドウマスク30の隣接し合う周期性パターンをそれぞれ通過した発光部3からの光束が干渉し合う位置において受光量を認識するための受光部4と、受光部4が認識した受光量に基づいてシャドウマスク30の周期性パターンの欠陥の有無を判断するためのデータ処理装置5とを備え、対物レンズ11からこのレンズのピント位置までの間隔Δfを所定の条件の距離に設定している。
請求項（抜粋）：
検査対象物の複数の透孔からなる周期性パターンの欠陥を検出する周期性パターン検査装置であって、前記検査対象物に向けて光を照射する光照射手段と、前記周期性パターンからの透過光を受光し、受光量を電気信号に変換する光電変換手段と、前記検査対象物と前記光電変換手段との間に設けられ、前記光電変換手段に前記透過光を結像する光学系と、前記電気信号に基づき前記周期性パターンの欠陥を検出する欠陥検出手段と、を有し、前記周期性パターンの周期をP,前記光電変換手段の単位受光面の1辺または直径をD,前記周期性パターンからの透過光の開口角の半角をθ、前記光学系のピント位置から前記検査対象物までの距離をΔf、前記光学系の倍率をMとしたとき、下記の式(1)を満たすことを特徴とする周期性パターン検査装置。【数1】
IPC (4件)：
G01N 21/88
, H01J 9/14
, H01J 9/42
, H04N 7/18
