特許

J-GLOBAL ID：200903086781876116

炭酸足浴剤

発明者： 大野 俊明 ,  佐保 幸也
出願人/特許権者： 旭化成ライフ&リビング株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-008455
公開番号（公開出願番号）：特開2005-200350
出願日： 2004年01月15日
公開日（公表日）： 2005年07月28日
要約：

【課題】足浴を行っている5〜30分の間中温湯中の二酸化炭素濃度が1000mg/L以上に維持出来る炭酸足浴剤を提供すること。【解決手段】炭酸塩及び/又は炭酸水素塩(A)が20〜60質量%、有機酸(B)が9〜50質量%、吸湿剤(C)が10〜70質量%、融点が40°C以上で且つHLBが2〜10の界面活性剤(D)が0.1〜10質量%である炭酸足浴剤【選択図】選択図なし

請求項（抜粋）：

炭酸塩及び/又は炭酸水素塩(A)が20〜60質量%、有機酸(B)が9〜50質量%、吸湿剤(C)が10〜70質量%、融点が40°C以上で且つHLBが2〜10の界面活性剤(D)が0.1〜10質量%である炭酸足浴剤。

IPC (3件)：

A61K7/50 ,  A61H33/02 ,  A61H35/00

FI (3件)：

A61K7/50 ,  A61H33/02 A ,  A61H35/00 F

Fターム (14件)：

4C083AB321 ,  4C083AB322 ,  4C083AB352 ,  4C083AC301 ,  4C083AC302 ,  4C083BB01 ,  4C083CC25 ,  4C083DD16 ,  4C083DD47 ,  4C094AA02 ,  4C094BC18 ,  4C094DD17 ,  4C094EE24 ,  4C094GG03

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 足浴剤および足浴方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-143900   出願人：四国化成工業株式会社