特許
J-GLOBAL ID:200903086793782982

光ファイバの製造方法及び製造装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-148149
公開番号(公開出願番号):特開2000-335933
出願日: 1999年05月27日
公開日(公表日): 2000年12月05日
要約:
【要約】【課題】 レイリー散乱強度を低減し、伝送損失の低い光ファイバを製造するに際して、表面に樹脂が被覆された光ファイバ素線の量産に適用することが可能な光ファイバの製造方法を提供すること。【解決手段】 線引き装置1は線引き炉11、徐冷用加熱炉21及び樹脂硬化部31を有している。線引き炉11にて加熱線引きされた光ファイバ3を徐冷用加熱炉21に送り、光ファイバ3の所定箇所を、所定の冷却速度にて徐冷する。徐冷用加熱炉21における徐冷は、加熱線引きされた光ファイバ3において温度が1300〜1700°Cとなる部分のうち、光ファイバ3の温度差が50°C以上となる区間を1000°C/秒以下の冷却速度で冷却することにより行われる。その後、光ファイバ3に、コーティングダイス51によりUV樹脂液52を塗布し、樹脂硬化部31にてUV樹脂が加熱硬化され、光ファイバ素線4となる。
請求項(抜粋):
光ファイバ母材を加熱線引きし、線引きされた光ファイバを樹脂により被覆する光ファイバの製造方法であって、前記樹脂を被覆する前の光ファイバにおいて温度が1300〜1700°Cとなる部分のうち、前記光ファイバの温度差が50°C以上となる区間を1000°C/秒以下の冷却速度にて冷却することを特徴とする光ファイバの製造方法。
IPC (2件):
C03B 37/10 ,  G02B 6/00 356
FI (2件):
C03B 37/10 ,  G02B 6/00 356 A
引用特許:
審査官引用 (8件)
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