特許
J-GLOBAL ID：200903086804926817
発熱体CVD装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (2件)：
鈴木 正次
, 涌井 謙一
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2001007795
公開番号（公開出願番号）：WO2002-025712
出願日： 2001年09月07日
公開日（公表日）： 2002年03月28日
要約：
処理容器内に導入された原料ガスを発熱体によって分解及び/又は活性化させ、処理容器内に配置されている基板上に薄膜を堆積させる発熱体CVD装置において、発熱体の電力供給機構への接続部近傍における、原料ガスによる劣化の防止、処理容器内部の付着膜を除去するクリーニング時のクリーニングガスとの反応の防止を図り、発熱体の長寿命化と、成膜環境の安定化を図れる生産性の良い発熱体CVD装置を提供する。発熱体と電力供給機構とを接続する接続端子に対する発熱体の接続部領域が処理容器内の空間に露出していない構造を採用することによって、具体的には、前記接続部領域が、発熱体との間に空隙部を存在させつつ当該接続部領域を覆う筒状体又は板体によって覆われている構造、または、前記接続部領域が接続端子との間に空隙部を存在させ、かつ、発熱体との間に空隙部を存在させつつ当該接続部領域を覆う筒状体又は板体よって覆われていると共に、前記接続端子側から前記空隙部を介して水素ガス等が処理容器内に導入されるようにして課題を解決した。
請求項（抜粋）：
内部に備えられている基板ホルダーに保持されている基板に対して所定の処理がなされる処理容器と、当該処理容器に接続されていて処理容器内を真空に排気する排気系及び、処理容器内に所定の原料ガスを供給する原料ガス供給系と、当該処理容器内に配置されていて電力供給機構からの電力供給を受けて高温にされる発熱体とを備え、前記原料ガス供給系から処理容器内に導入された原料ガスが高温に維持された発熱体によって分解及び/又は活性化され、前記基板ホルダーに保持されている基板に薄膜が形成される発熱体CVD装置であって、
前記発熱体と電力供給機構とを電気的に接続する複数個の接続端子を、電気的に絶縁を図りつつ、あらかじめ定められている位置に保持し、当該接続端子に接続される発熱体を基板ホルダーに対向させて支持する接続端子ホルダーが一個、又は複数個、処理容器内に設置されていると共に、前記接続端子に接続される発熱体の接続部領域が処理容器内の空間に露出していないことを特徴とする発熱体CVD装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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