特許
J-GLOBAL ID：200903086820056520
エッチング液およびエッチング方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
谷 義一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-135845
公開番号（公開出願番号）：特開平6-349807
出願日： 1993年06月07日
公開日（公表日）： 1994年12月22日
要約：
【要約】【目的】 単純なプロセスで制御性良く、サブミクロンパタンを形成することができるエッチング液およびエッチング方法を提供する。【構成】 臭素を含む水溶液を用いて、レジストパタン12を有するInP基板11にサブミクロンの形状をエッチングする際に、臭素濃度を0.5%以下、水溶液の温度を10°C以下凝固点以上とする。
請求項（抜粋）：
臭素を含む水溶液を用いて、少なくともインジウムもしくはガリウムと燐もしくは砒素とを含む化合物半導体にサブミクロンの形状をエッチングする際に用いるエッチング液であって、臭素濃度が0.5%以下、水溶液の温度が10°C以下凝固点以上であることを特徴とするエッチング液。
IPC (2件)：
H01L 21/308
, H01L 21/306
