特許
J-GLOBAL ID:200903086824454830
表面酸化皮膜の成長を抑制する温間成形方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
鈴江 武彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-293382
公開番号(公開出願番号):特開平5-131224
出願日: 1991年11月08日
公開日(公表日): 1993年05月28日
要約:
【要約】【目的】本発明は、アルミニウム板材表面の酸化皮膜の成長を抑制することができる温間成形方法を提供することを目的とする。【構成】アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる板材を成形金型に配置し、無酸素雰囲気下で前記板材および/または前記金型を60〜500°Cに加熱しながら前記板材に温間成形を施すことを特徴としている。無酸素雰囲気は、10-2Torr以下の真空状態、不活性ガス雰囲気、および還元ガス雰囲気からなる群より選ばれた雰囲気であることが好ましい。
請求項(抜粋):
アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる板材を成形金型に配置し、無酸素雰囲気下で前記板材および/または前記金型を60〜500°Cに加熱しながら前記板材に温間成形を施すことを特徴とする表面酸化皮膜の成長を抑制する温間成形方法。
IPC (2件):
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