磁気記録媒体及びそれを製造するための方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：坂口博 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-503864
公開番号（公開出願番号）：特表2003-536199
出願日： 2001年06月01日
公開日（公表日）： 2003年12月02日
要約：

【要約】【課題】個別の磁性領域及び非磁性領域にパターン化され、磁性領域が磁気記録データ・ビットとして作用する磁気記録ディスクを提供する。【解決手段】磁気記録層(20)は、非強磁性スペーサ膜(26)によって分離された2つの強磁性膜(22、24)を含む。スペーサ膜(26)の材料組成及び厚さは、第1及び第2の強磁性膜(22、24)がスペーサ膜(26)を通して反強磁的に結合されるように選択される。この磁気記録層(20)がディスク基板(11)上に形成された後、パターン化されたマスク(60)を通してイオン(62)がそれに照射される。イオンは、スペーサ膜(26)を崩壊させ、それによってそれら2つの強磁性膜(22、24)の間の反強磁結合を破壊する。その結果、イオン照射された磁気記録層(20)の領域(55)では、第1及び第2の強磁性膜(22、24)は、それら強磁性膜からの磁気モーメントが平行になり、本質的にそれら2つの膜(22、24)からのモーメントの合計である磁気モーメントを生じるように、本質的に強磁的に結合される。磁気記録層(20)の非照射領域(52、54)では、第1及び第2の強磁性膜(22、24)は、それらの磁気モーメントが逆平行に配向されるように反強磁的に結合されたままである。第1及び第2の強磁性膜(22、24)の組成及び厚さは、磁気記録ヘッドが設けられる高さに対応した磁気記録層(20)上の所定距離において検出可能であるように選択される。

請求項（抜粋）：

基板(11)と、前記基板上に設けられ、第1の強磁性膜(22)、第2の強磁性膜(24)、及び前記第1及び第2の強磁性膜の間の非強磁性膜(26)を含む磁性層(20)と、を含み、前記磁性層は、前記第1及び第2の強磁性膜が前記非強磁性膜を通して反強磁的に結合されることにより第1の領域(52、54)にパターン化され、前記第1及び第2の強磁性膜が強磁的に結合されることにより第2の領域(55)にパターン化される、磁気記録媒体(10)。

IPC (6件)：

G11B 5/66 , G11B 5/64 , G11B 5/738 , G11B 5/84 , H01F 10/16 , H01F 10/30

FI (6件)：

G11B 5/66 , G11B 5/64 , G11B 5/738 , G11B 5/84 Z , H01F 10/16 , H01F 10/30

Fターム (20件)：

5D006BB01 , 5D006BB07 , 5D006BB08 , 5D006CA01 , 5D006DA03 , 5D006DA08 , 5D006FA00 , 5D112AA05 , 5D112AA06 , 5D112AA24 , 5D112BB01 , 5D112BB02 , 5D112BD03 , 5D112BD04 , 5D112GA19 , 5D112GA20 , 5E049AA04 , 5E049BA06 , 5E049CB02 , 5E049DB12

引用特許：

審査官引用 (8件)

磁気記録媒体およびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-248830 出願人：富士通株式会社
マーキング装置
公報種別：公表公報出願番号：特願2000-582964 出願人：フォルシュングスツェントルムユーリッヒゲーエムベーハー
磁気記録媒体
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-107071 出願人：富士通株式会社

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