特許
J-GLOBAL ID：200903086836380514
近接露光方法及びその装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-350473
公開番号（公開出願番号）：特開平7-201711
出願日： 1993年12月29日
公開日（公表日）： 1995年08月04日
要約：
【要約】【目的】 大型化された基板にも精度良くパターンを転写できる近接露光方法及びその装置を提供する。【構成】 光源から照射された露光用照明光の反射してマスク面に照射する光路反転ミラー65の裏面の複数個所に、微小変位可能なアクチュエータ67が配備されている。露光用照明光の平行度の局部的な調整およびマスクの局部的な伸縮等を補正するにあたり、該当個所のアクチュエータ67が駆動されることにより、光路反転ミラー65のその個所の曲率が調整される。
請求項（抜粋）：
パターンが形成されたマスクに対向して基板を保持し、前記マスクを介在させて前記基板に露光用照明光を照射し、前記基板表面に前記マスクのマターンを焼き付ける近接露光方法において、前記マスクのパターンのズレ量とその個所を測定し、前記測定結果に基づいて、前記露光用照明光の照射角度を局部的に変更すること、を特徴とする近接露光方法。
IPC (5件)：
H01L 21/027
, G02F 1/13 101
, G03B 27/32
, G03B 27/53
, G03F 7/20
