特許
J-GLOBAL ID：200903086837707690

高速ヒ素吸着材料及びその作製方法

発明者：
玉田 正男

玉田 正男 について

, 
石坂 浩一

石坂 浩一 について


出願人/特許権者：
独立行政法人 日本原子力研究開発機構

独立行政法人 日本原子力研究開発機構 について


代理人 (11件)： 社本 一夫 ,  小野 新次郎 ,  小林 泰 ,  千葉 昭男 ,  富田 博行 ,  桜井 周矩 ,  神田 藤博 ,  田中 英夫 ,  細川 伸哉 ,  深澤 憲広 ,  平山 晃二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-182842
公開番号（公開出願番号）：特開2007-000752
出願日： 2005年06月23日
公開日（公表日）： 2007年01月11日
要約：
【課題】SVが10h-1より高い条件で、ヒ素の除去ができ、且つ大量の処理水を迅速に処理することが可能な高速砒素吸着材。【解決手段】 繊維状のイミノ二酢酸基型吸着材に、そのイミノ二酢酸基に3価の鉄を吸着させた後に、酸性溶液でコンディショニングを行うことにより得られた高速ヒ素吸着材料。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
繊維状のイミノ二酢酸基型吸着材に、そのイミノ二酢酸基に3価の鉄を吸着させた後に、酸性溶液でコンディショニングを行うことにより得られた高速ヒ素吸着材料。
IPC (5件)：
B01J 20/26 ,  C02F 1/28 ,  C08F 8/42 ,  C08F 251/02 ,  C08F 255/02
FI (5件)：
B01J20/26 E ,  C02F1/28 B ,  C08F8/42 ,  C08F251/02 ,  C08F255/02
Fターム (54件)：
4D024AA01 ,  4D024AA05 ,  4D024AB16 ,  4D024BA17 ,  4D024BB02 ,  4D024BC01 ,  4G066AA02B ,  4G066AB03A ,  4G066AB05A ,  4G066AB07A ,  4G066AB13A ,  4G066AB21A ,  4G066AC02A ,  4G066AC02C ,  4G066AC13A ,  4G066AC13C ,  4G066AD10B ,  4G066AD15B ,  4G066BA16 ,  4G066CA46 ,  4G066DA07 ,  4G066FA07 ,  4G066FA11 ,  4G066FA31 ,  4G066FA36 ,  4G066FA38 ,  4H050AA03 ,  4H050AB80 ,  4H050AB82 ,  4H050WB13 ,  4H050WB14 ,  4H050WB20 ,  4J026AA02 ,  4J026AA12 ,  4J026AA13 ,  4J026BA08 ,  4J026BA30 ,  4J026DB36 ,  4J026EA09 ,  4J026GA01 ,  4J026GA02 ,  4J100AB08P ,  4J100AE18P ,  4J100AL10P ,  4J100BA03H ,  4J100BA17H ,  4J100BA28H ,  4J100BC54P ,  4J100HA61 ,  4J100HB52 ,  4J100HC59 ,  4J100HE07 ,  4J100HE13 ,  4J100JA15
引用特許：
審査官引用 (8件)
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