特許
J-GLOBAL ID：200903086838407819
ECRマイクロ波プラズマCVD装置
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
宇高 克己
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-059856
公開番号（公開出願番号）：特開平9-256161
出願日： 1996年03月15日
公開日（公表日）： 1997年09月30日
要約：
【要約】【課題】 磁気テープのような長尺状のものに連続成膜させても、膜厚や膜質に変動が起き難い技術を提供することである。【解決手段】 磁場発生手段と、マイクロ波発生手段と、マイクロ波の導波管と、プラズマ反応管と、前記マイクロ波導波管とプラズマ反応管との間に設けられた窓と、前記プラズマ反応管内に成膜材料を供給する供給手段とを具備したECRマイクロ波プラズマCVD装置において、前記窓に近い位置にクリーニング用プラズマ発生手段が設けられてなるECRマイクロ波プラズマCVD装置。
請求項（抜粋）：
磁場発生手段と、マイクロ波発生手段と、マイクロ波の導波管と、プラズマ反応管と、前記マイクロ波導波管とプラズマ反応管との間に設けられた窓と、前記プラズマ反応管内に成膜材料を供給する供給手段とを具備したECRマイクロ波プラズマCVD装置において、前記窓に近い位置にクリーニング用プラズマ発生手段が設けられてなることを特徴とするECRマイクロ波プラズマCVD装置。
IPC (4件)：
C23C 16/50
, C30B 29/04
, C30B 35/00
, G11B 5/84
C23C 16/50
, C30B 29/04 B
, C30B 35/00
, G11B 5/84 B
