特許

J-GLOBAL ID：200903086839174338

水中への溶存酸素生成方法

発明者： 持麾 正 ,  南館 誠
出願人/特許権者： 持麾 正 ,  南館 誠
代理人 (1件)： 橘 哲男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-132695
公開番号（公開出願番号）：特開平7-108147
出願日： 1993年05月10日
公開日（公表日）： 1995年04月25日
要約：

【要約】【目的】 本発明は、水中に溶存酸素を生成する浄化殺菌方法に関し、高価な後処理設備を必要とする残留オゾンが水中になく、大気中にもオゾンを放出させないで、細菌、汚染状態の原水を殺菌浄化することを目的とする。【構成】 水中にオゾン、オゾンと空気の混合気体の何れかを吹き込んで気泡を形成し、この気泡に紫外線240〜310nmを照射してオゾンをを一重項酸素に生成し、次に可視光線600〜650nm、近赤外線1200〜1300nm若しくはレーザ光を各々単独あるいは同時あるいは順次照射し励起された一重項酸素の電磁波の誘導放出による基底状態酸素への遷移を利用した水中への溶存在酸素生成方法である。

請求項（抜粋）：

水中にオゾン、オゾンと空気の混合気体の何れかを吹き込んで気泡を形成し、この気泡に紫外線240〜310nmを照射してオゾンをを一重項酸素に生成し、次に可視光線600〜650nm、近赤外線1200〜1300nm若しくはレーザ光を各々単独あるいは同時あるいは順次照射し励起された一重項酸素の電磁波の誘導放出による基底状態酸素への遷移を利用した水中への溶存酸素生成方法。

IPC (11件)：

B01F 1/00 ,  C02F 1/30 ZAB ,  C02F 1/32 ZAB ,  C02F 1/50 510 ,  C02F 1/50 520 ,  C02F 1/50 ,  C02F 1/50 531 ,  C02F 1/50 540 ,  C02F 1/50 550 ,  C02F 1/50 560 ,  C02F 1/78 ZAB