特許
J-GLOBAL ID：200903086843283800
処理液塗布装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小谷 悦司 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-331502
公開番号（公開出願番号）：特開平11-165116
出願日： 1997年12月02日
公開日（公表日）： 1999年06月22日
要約：
【要約】【課題】 洗浄液を有効活用することにより洗浄液の消費量を効果的に抑える。【解決手段】 スピンコータ10の各洗浄ノズルに対する洗浄液の供給系を次のように構成した。すなわち、洗浄液を貯留するタンク60を設け、これと各洗浄ノズルとの間に洗浄液供給管62を配設するとともに、基板保持体12の液貯留部44とタンク60との間に洗浄液回収管66を配設した。これら洗浄液供給管62および洗浄液回収管66には、それぞれ開閉バルブ64,68を介設した。上記タンク60には、さらに、圧力計を備えたレギュレータ72及び開閉バルブ74を介して図外の窒素ガス供給源に接続されるガス供給管70と、開閉バルブ78を介して真空ポンプ80に接続される負圧管76と、開閉バルブ84を介して大気中に開放される排気管82とを接続した。
請求項（抜粋）：
基板保持部に保持された基板の表面に処理液を供給して基板表面に処理液の薄膜を形成する処理液塗布装置において、装置構成部分に向かって洗浄液を吐出可能に配置された液吐出手段と、この液吐出手段に洗浄液を送り上記液吐出手段から洗浄液を上記装置構成部分に供給して上記装置構成部分を洗浄する液供給系とを備え、上記液供給系は、上記装置構成部分の洗浄に供された洗浄液を回収して上記液吐出手段に再供給することを特徴とする処理液塗布装置。
IPC (4件)：
B05C 11/10
, B05C 11/08
, G03F 7/16
, H01L 21/027
B05C 11/10
, B05C 11/08
, G03F 7/16
, H01L 21/30 564 C
