特許
J-GLOBAL ID:200903086855344472
基材被覆膜の除去法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
西 義之
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-248384
公開番号(公開出願番号):特開2000-080483
出願日: 1998年09月02日
公開日(公表日): 2000年03月21日
要約:
【要約】【課題】 ガラス、セラミック等の基材上の、金属、または金属化合物からなる薄膜を、容易な手段で効果的に除去する。【解決手段】 ガラス、セラミック基材の表面に被覆した金属またはその化合物からなる薄膜を除去する方法において、該薄膜の所望除去箇所に酸性硫酸塩を接触させ、前記酸性硫酸塩の融点以上に加熱して薄膜とともに融解せしめ、次いで冷却後該部を洗浄し薄膜を除去する基材被覆膜の除去法。
請求項(抜粋):
ガラス、セラミック基材の表面に被覆した金属またはその化合物からなる薄膜を除去する方法において、該薄膜の所望除去箇所に酸性硫酸塩を接触させ、前記酸性硫酸塩の融点以上に加熱して薄膜とともに融解せしめ、次いで冷却後該部を洗浄し薄膜を除去することを特徴とする基材被覆膜の除去法。
IPC (6件):
C23F 1/00 103
, B01J 6/00 102
, B01J 19/00
, C03C 23/00
, C04B 41/85
, C04B 41/91
FI (6件):
C23F 1/00 103
, B01J 6/00 102
, B01J 19/00 K
, C03C 23/00 A
, C04B 41/85 Z
, C04B 41/91 Z
Fターム (26件):
4G059AA01
, 4G059AC30
, 4G068CA07
, 4G068CA10
, 4G068CB03
, 4G068CB15
, 4G075AA24
, 4G075AA30
, 4G075BB03
, 4G075BB10
, 4G075BC01
, 4G075BC04
, 4G075CA02
, 4G075CA03
, 4K057WA20
, 4K057WB02
, 4K057WB04
, 4K057WB05
, 4K057WB08
, 4K057WB15
, 4K057WB20
, 4K057WE03
, 4K057WF04
, 4K057WG02
, 4K057WK01
, 4K057WN10
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