特許
J-GLOBAL ID：200903086865196706

化学反応装置及びその制御方法

発明者：
山本 忠夫

山本 忠夫 について


出願人/特許権者：
カシオ計算機株式会社

カシオ計算機株式会社 について


代理人 (1件)： 鹿嶋 英實
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-283126
公開番号（公開出願番号）：特開2003-088754
出願日： 2001年09月18日
公開日（公表日）： 2003年03月25日
要約：
【要約】【課題】 微小空間に反応流路等の機能要素が集積化された化学反応装置において、触媒反応の反応速度の低下や触媒の特性劣化を抑制して、反応効率の高い触媒反応を実現することができる化学反応装置及びその制御方法を提供する。【解決手段】 化学反応装置に適用される反応流路部は、微小基板10の一面側に所定の溝形状を有して形成され、内壁面に触媒21が付着形成された反応流路20Aと、微小基板10の一面側に接合された閉止基板30と、微小基板10の他面側に所定の同一形状でパターニング形成された複数の薄膜ヒータ41a、41b、41cと、複数の薄膜ヒータ41a、41b、41cの各々に異なる電力を供給して、各薄膜ヒータにおける発熱状態を個別に制御する複数の発熱制御部61a、61b、61cと、を備えて構成されている。
請求項（抜粋）：
微小基板に連続して形成された反応流路内で第1の流体物質を第2の流体物質に変換する化学反応を生じる化学反応装置において、前記反応流路に対応する領域に、複数に分割して設けられ、前記反応流路に所定の熱エネルギーを供給する熱伝達手段と、前記熱伝達手段の各々の温度状態を制御する熱伝達制御手段と、を有することを特徴とする化学反応装置。
Fターム (12件)：
4G075AA05 ,  4G075AA45 ,  4G075AA62 ,  4G075AA63 ,  4G075AA65 ,  4G075BA05 ,  4G075BD12 ,  4G075CA02 ,  4G075CA13 ,  4G075CA54 ,  4G075EE03 ,  4G075FB02
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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