特許

J-GLOBAL ID：200903086871699108

成膜ガスおよびプラズマ成膜方法

発明者： 中村 新吾 ,  板野 充司 ,  青山 博一
出願人/特許権者： ダイキン工業株式会社
代理人 (1件)： 三枝 英二 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-341576
公開番号（公開出願番号）：特開2002-220668
出願日： 2001年11月07日
公開日（公表日）： 2002年08月09日
要約：

【要約】【課題】膜密度を制御してフルオロカーボンポリマー膜からなる層間絶縁膜を形成する。【解決手段】二重結合を1以上、または三重結合を1つ有する成膜ガスおよび該成膜ガスを用いたプラズマ成膜方法

請求項（抜粋）：

一般式(1):Rfh=CXY (1)(RfhはCF3CF、CF3CHまたはCF2を示し、XおよびYは、同一又は異なってF,Cl,Br,I,HまたはCaFbHc (a=1-4、b=0-9,c=0-9, b+c=2a+1)を示す。)で表される少なくとも1種以上のガスを含む成膜ガス。

IPC (2件)：

C23C 16/26 ,  H01L 21/312

FI (2件)：

C23C 16/26 ,  H01L 21/312 A

Fターム (11件)：

4K030AA04 ,  4K030AA11 ,  4K030BA35 ,  4K030FA04 ,  4K030LA02 ,  4K030LA18 ,  5F058AA10 ,  5F058AC10 ,  5F058AF02 ,  5F058AH02 ,  5F058AH03