特許
J-GLOBAL ID:200903086887254939

型付け用離型材およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-000754
公開番号(公開出願番号):特開平5-177704
出願日: 1992年01月07日
公開日(公表日): 1993年07月20日
要約:
【要約】【目的】型付け性が良好で、型保存性、復元性の良い離型材を効率よく製造する。【構成】ポリエチレン支持体にエンボス加工を施し、電子線後照射により架橋することにより得られる型付けポリエチレンを離型材に用いることにより、型付け性が良好で、高温での型くずれが少ない型保存性、復元性の高い離型材を製造する。該ポリエチレン層の表面に、シリコーン樹脂などの剥離層を設けても良い。該ポリエチレンは電子線照射による架橋を行なった後、紙、フィルム、金属箔などに貼り合わせて用いることができる。【効果】降伏点応力の低いポリエチレンを用いることにより型付け性が良好で、かつ、高温で有機溶媒を含むペーストと接した場合に、架橋したポリエチレンの形状記憶性により型が崩れず型保存性が良好で、多数回の繰り返し使用に耐える。
請求項(抜粋):
エンボス加工をしてなるポリエチレンを主成分とする支持体に、電子線照射による架橋が施された型付け用離型材。
IPC (6件):
B29C 59/00 ,  B29C 33/68 ,  B32B 27/00 101 ,  B32B 27/10 ,  B29K 23:00 ,  B29K105:24

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