特許
J-GLOBAL ID:200903086902999270

真空乾燥装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 綾田 正道 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-289393
公開番号(公開出願番号):特開平6-117755
出願日: 1992年10月01日
公開日(公表日): 1994年04月28日
要約:
【要約】【目的】 多数のワークをまとめて乾燥することができると共に、ワークを乾燥効率が良い真空雰囲気内で乾燥できるようにする。【構成】 一端にワーク投入口5が設けられ、他端にワーク取出口6が設けられ、前記ワーク投入口5及びワーク取出口6に設けた開閉蓋51,61の閉鎖状態で密閉される回転ドラム1を有し、この回転ドラム1の内周面に螺旋状の撹拌送り板7が突設され、前記回転ドラム1の内部に真空ポンプ3が接続されると共に、回転ドラム1の外周面にヒータ8が取り付けられている。
請求項(抜粋):
一端にワーク投入口が設けられ、他端にワーク取出口が設けられ、前記ワーク投入口及びワーク取出口に設けた開閉蓋の閉鎖状態で密閉される回転ドラムを有し、この回転ドラムの内周面に螺旋状の撹拌送り板が突設され、前記回転ドラムの内部に真空ポンプが接続されると共に、回転ドラムの外周面にヒータが取り付けられていることを特徴とした真空乾燥装置。
IPC (2件):
F26B 15/00 ,  F26B 5/04
引用特許:
審査官引用 (3件)
  • 特開昭61-147093
  • 特開昭48-070940
  • 特公昭28-001666

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