特許

J-GLOBAL ID：200903086927080017

バイオセンサ及びバイオセンサの製造方法

発明者： 齋藤 総一 ,  齋藤 敦 ,  池田 悟
出願人/特許権者： 多摩電気工業株式会社
代理人 (1件)： 松隈 秀盛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-157175
公開番号（公開出願番号）：特開2002-350383
出願日： 2001年05月25日
公開日（公表日）： 2002年12月04日
要約：

【要約】【課題】 バイオセンサの反応膜5上に形成する制限透過膜8に穿つ様に形成される透孔11をフォトリソグラフィにより開口率が適宜制御可能な様に形成することで任意の特性のバイオセンサ及びバイオセンサの製造方法を得る。【解決手段】 絶縁性基板1の上に作用極2、対極3を形成し、次に選択透過膜4、固定化酵素膜5を順次積層する。固定化酵素膜5上に非有機溶剤を剥離液とするフォトレジストからなる突起6を形成した後、不透水性膜7を形成する。次に剥離液にて突起部6を除去して制限透過膜8を形成して開口部が制御可能なバイオセンサ及びバイオセンサの製造方法を得る。

請求項（抜粋）：

反応層より下側に選択透過膜を有し、該反応層より外側に制限透過膜を有するバイオセンサであって、上記制限透過膜の下地層上に非有機溶剤を剥離液とする感光性材料により設けられた微小な複数の突起部と、上記複数の突起部の周囲に設けた不透水性膜とを具備し、上記複数の突起部を除去して上記不透水性膜を残して微小な複数の小開口を有する上記制限透過膜と成したことを特徴とするバイオセンサ。

IPC (3件)：

G01N 27/327 ,  G01N 27/414 ,  G01N 27/416

FI (4件)：

G01N 27/30 353 Z ,  G01N 27/30 353 J ,  G01N 27/46 338 ,  G01N 27/30 301 L