特許
J-GLOBAL ID:200903086932930819

磁気記録媒体及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 阿仁屋 節雄 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-015379
公開番号(公開出願番号):特開平9-016941
出願日: 1996年01月31日
公開日(公表日): 1997年01月17日
要約:
【要約】【目的】 磁気記録媒体の高保磁力化、低浮上走行化及び高CSS耐久性化をより容易に実現できる磁気記録媒体及びその製造方法を提供する。【構成】 ガラス基板1上に、順次、第1下地層2及び第2下地層3を形成し、次に、第2下地層3を形成した基板を加熱処理し、次に、この第2下地層の上に順次、第3下地層4、磁性層5、保護層6及び潤滑層7を形成して磁気記録媒体を得るようにした。
請求項(抜粋):
ガラス基板上に形成された下地層と、この下地層の上に形成された磁性層と、この磁性層の上に他の層を介して又は介さずに形成された保護層と、この保護層上に形成された潤滑層とを有する磁気記録媒体において、前記下地層は、前記ガラス基板に接する側に形成されたAl,Ge,Ga,Zr,Ti,Si,Pb,Cu,Tnから選ばれた少なくとも1種を主成分とする第1下地層と、この第1下地層の上に形成されたCr,TiW,Mo,Ti,Ta,W,Zr,Cu,Al,Zn,In,Snから選ばれた少なくとも1種を主成分とする第2下地層とを有することを特徴とする磁気記録媒体。
IPC (2件):
G11B 5/66 ,  G11B 5/84
FI (2件):
G11B 5/66 ,  G11B 5/84 Z
引用特許:
審査官引用 (12件)
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