特許
J-GLOBAL ID：200903086934817904
レジストパターン形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
曾我 道照 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-052634
公開番号（公開出願番号）：特開平5-259018
出願日： 1992年03月11日
公開日（公表日）： 1993年10月08日
要約：
【要約】【目的】 露光光学系によって決定される最小パターン以下の矩形性のすぐれた微細なレジストパターンを得る。【構成】 露光光学系によって決定される限界解像度以上のコントラストのよいレジストパターンを露光する第1の工程と、必要な線幅だけが露光されない位置までXYステージを動かし、第1の工程で露光したレジストパターン上に重ね露光して微細なレジストパターンを形成する第2の工程を含む。
請求項（抜粋）：
露光光学系によって決定される限界解像度以上のレジストパターンを露光する第1の工程と、必要な線幅が残る位置までXYステージを移動させ、上記第1の工程で露光されたレジストパターン上に重ね露光して微細なレジストパターンを形成する第2の工程を含むことを特徴とするレジストパターン形成方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
, G03F 7/26
