特許
J-GLOBAL ID：200903086934968228
反射型ホログラムの作製方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-096597
公開番号（公開出願番号）：特開2001-282084
出願日： 2000年03月31日
公開日（公表日）： 2001年10月12日
要約：
【要約】【課題】デザイン性がより自由で、高級感、斬新性、立体感を備えたオーナメントとなるホログラムの作製方法を提供する。【解決手段】文字などの特定パターンを記録した45AのホログラムAと、上記同一特定パターンの影を記録した45BのホログラムBとを、所望の影の大きさとなるようずらせて重ね複製用原版43とし、さらに重ねたホログラム感光材料41側から露光用の参照光を照射する。
請求項（抜粋）：
複製用原版を使用して作製する反射型ホログラムの作製方法であって、(1)所定パターンの形状の遮光部を有する遮光マスクを平面状の第1のホログラム感光材料に対向配置し、第1のホログラム感光材料に前記遮光マスク側から非可干渉性の光を照射して部分未露光のホログラム感光材料を作製し、次に前記部分未露光のホログラム感光材料の物体光入射側位置に光を拡散する拡散板を配置し、可干渉性の参照光と物体光とのそれぞれを前記部分未露光のホログラム感光材料の異なる面に向けて照射して、第1の反射型ホログラムを作製する工程と、(2)物体光入射側に配置した第2のホログラム感光材料面から1〜20mm離して、前記遮光マスクと表面に凹凸パターンを有する透明基板とを第2のホログラム感光材料面からこの順に重ねて配置し、可干渉性の参照光と物体光とのそれぞれを第2のホログラム感光材料の異なる面に向けて(1)の工程と同じ入射角度で照射して、第2の反射型ホログラムを作製する工程と、(3)第1の反射型ホログラムと第2の反射型ホログラムとのそれぞれに記録された前記所定パターンの形状が完全に重なる状態から所定量ずれるように、第1の反射型ホログラムと第2の反射型ホログラムとを重ねて複製用原版とし、前記複製用原版の第1の反射型ホログラム側に少なくとも第3のホログラム感光材料をさらに重ねた状態で、第3のホログラム感光材料側から(1)および(2)の工程の参照光入射角度と同じ角度で参照光のみを照射する工程と、を含むことを特徴とする反射型ホログラムの作製方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (6件)：
2K008AA14
, 2K008BB03
, 2K008DD12
, 2K008EE04
, 2K008HH01
, 2K008HH06
