特許

J-GLOBAL ID：200903086936372098

レーザ描画装置

発明者： 古澤 宏一 ,  塩谷 慎吾 ,  伊藤 栄一 ,  山本 清
出願人/特許権者： 旭光学工業株式会社
代理人 (1件)： 三浦 邦夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-153842
公開番号（公開出願番号）：特開平9-122942
出願日： 1996年06月14日
公開日（公表日）： 1997年05月13日
要約：

【要約】【目的】熱作用を利用したレーザ描画装置において、コンパクトな構成で高速描画を可能にする。【構成】描画用レーザ光源11および予熱用レーザ光源19と、これらのレーザ光源11、19から射出された描画用レーザ光および予熱用レーザ光を、反射し、偏向して同期走査するスキャニングミラー15とを備え、熱書込み液晶セル21に文字、図形などの画像を、予熱用レーザ光で予熱しながら描画用レーザ光で描画するレーザ描画装置。

請求項（抜粋）：

レーザ光の熱作用により被描画部材に描画するレーザ描画装置であって、前記描画用レーザ光とは別の予熱用レーザ光によって前記被描画部材を加熱しながら前記描画用レーザ光で描画すること、を特徴とするレーザ描画装置。

IPC (3件)：

B23K 26/00 ,  G02F 1/13 102 ,  G02F 1/133 565

FI (4件)：

B23K 26/00 C ,  B23K 26/00 H ,  G02F 1/13 102 ,  G02F 1/133 565