特許

J-GLOBAL ID：200903086940176597

膜形成用塗布液および絶縁膜

発明者： 吉田 祐司 ,  横田 明 ,  チェ ヒョンチョル
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 久保山 隆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-254631
公開番号（公開出願番号）：特開2001-072927
出願日： 1999年09月08日
公開日（公表日）： 2001年03月21日
要約：

【要約】【課題】溶解性および安全性に優れた膜形成用塗布液、およびこれを用いて得られる、半導体装置の絶縁膜、フォトレジスト膜、パッシベーション膜を提供する。【解決手段】〔1〕下記の(A)および(B)を含む膜形成用塗布液。(A)芳香族環を主鎖に有するポリマー、(B)フェニルエーテル類である有機溶剤〔2〕前記の膜形成用塗布液を用いて形成されてなる絶縁膜、フォトレジスト膜またはパッシベーション膜。

請求項（抜粋）：

下記の(A)および(B)を含む膜形成用塗布液。(A)芳香族環を主鎖に有するポリマー、(B)フェニルエーテル類である有機溶剤

IPC (9件)：

C09D187/00 ,  C08J 5/18 CEZ ,  C08K 5/06 ,  C08L 71/00 ,  C09D 7/12 ,  C09D171/00 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/312

FI (10件)：

C09D187/00 ,  C08J 5/18 CEZ ,  C08K 5/06 ,  C08L 71/00 Z ,  C09D 7/12 Z ,  C09D171/00 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/312 A ,  H01L 21/312 D ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (51件)：

2H025AA00 ,  2H025AA18 ,  2H025AA20 ,  2H025AB16 ,  2H025AB20 ,  2H025CB21 ,  2H025CB23 ,  2H025CB41 ,  2H025CC03 ,  4F071AA51 ,  4F071AC06 ,  4F071AE19 ,  4F071AF39 ,  4F071AH12 ,  4F071AH19 ,  4F071BA02 ,  4F071BB02 ,  4F071BC01 ,  4F071BC02 ,  4F071BC12 ,  4J002CH061 ,  4J002CH091 ,  4J002CL071 ,  4J002CN011 ,  4J002CN031 ,  4J002ED056 ,  4J002ED066 ,  4J002GP03 ,  4J002GQ01 ,  4J038DF051 ,  4J038DH001 ,  4J038DK011 ,  4J038GA01 ,  4J038GA07 ,  4J038GA08 ,  4J038JA28 ,  4J038KA06 ,  4J038MA07 ,  4J038MA09 ,  4J038MA16 ,  4J038NA14 ,  4J038NA21 ,  4J038NA27 ,  4J038PB09 ,  5F058AA10 ,  5F058AC08 ,  5F058AF04 ,  5F058AG01 ,  5F058AG09 ,  5F058AH02 ,  5F058AH03