撮像装置およびスミア補正処理装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：大野聖二 , 森田耕司 , 鈴木守
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-021564
公開番号（公開出願番号）：特開2006-211368
出願日： 2005年01月28日
公開日（公表日）： 2006年08月10日
要約：

【課題】画質劣化の少ない良好なスミア補正処理を行うことのできる撮像装置を提供する。【解決手段】撮像装置は、画像信号を得る撮像部110と、垂直OB画素の信号からスミア成分を検出するスミア検出部112と、画像信号中の少なくとも一の候補検出ラインとスミア成分の相関に基づいて、候補検出ライン上のスミア発生位置候補を検出するスミア発生位置候補検出部113と、垂直OB画素のスミア発生位置と画像中のスミア発生位置候補とからスミア発生領域を検出するスミア発生領域検出部114と、検出されたスミア発生領域において画像信号からスミア成分を減算することによってスミア補正を行うスミア成分減算部115とを備えている。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

画像信号を得る撮像手段と、垂直OB画素の信号からスミア成分を検出するスミア検出手段と、前記画像信号中の少なくとも一の候補検出ラインと前記スミア成分の相関に基づいて、前記候補検出ライン上のスミア発生位置候補を検出するスミア発生位置候補検出手段と、垂直OB画素のスミア発生位置と画像中のスミア発生位置候補とからスミア発生領域を検出するスミア発生領域検出手段と、検出された前記スミア発生領域において画像信号から前記スミア成分を減算することによってスミア補正を行うスミア成分減算手段と、を備えたことを特徴とする撮像装置。

IPC (1件)：

H04N 5/335

FI (2件)：

H04N5/335 P , H04N5/335 F

Fターム (5件)：

5C024CX13 , 5C024GY04 , 5C024GZ36 , 5C024HX29 , 5C024HX58

引用特許：

出願人引用 (1件)

スミア補正装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-051049 出願人：株式会社東芝, 東芝マイクロエレクトロニクス株式会社

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