特許

J-GLOBAL ID：200903086944187437

レジスト組成物

発明者： 佐藤 健一郎 ,  藤森 亨 ,  土村 智孝
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  栗宇 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-238272
公開番号（公開出願番号）：特開2004-077817
出願日： 2002年08月19日
公開日（公表日）： 2004年03月11日
要約：

【課題】コンタクトホールパターン作製の際、デフォーカスラチチュード、プロファイル、サイドローブマージンが良好なレジスト組成物を提供する。【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、及び(C)長鎖アルキル基とアルカリ可溶性基とを含有する化合物を含有することを特徴とするレジスト組成物。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、及び(C)長鎖アルキル基とアルカリ可溶性基とを含有する化合物を含有することを特徴とするレジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

FI (3件)：

G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  H01L21/30 502R

Fターム (9件)：

2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20