特許

J-GLOBAL ID：200903086950496441

粉粒体処理装置

発明者： 辻本 広行
出願人/特許権者： ホソカワミクロン株式会社
代理人 (1件)： 北村 修一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-342012
公開番号（公開出願番号）：特開2001-149770
出願日： 1999年12月01日
公開日（公表日）： 2001年06月05日
要約：

【要約】【課題】 粉粒体への帯電を有効に阻止しつつ、粉粒体の造粒・乾燥・コーティング等の処理を行い得る粉粒体処理装置を提供する。【解決手段】 粉粒体Fの処理を行うために、装置本体1の内部下方に粉粒体Fを貯留する処理部2を備えると共に、処理部2に貯留した粉粒体Fに下方から流動用エアー5を供給して流動床を形成するために、処理部2の下方にエアー吹出部4を備え、流動床に対して高圧エアー7を吹き付けるジェットノズル6を備えた粉粒体処理装置であって、ジェットノズル6からイオン化した高圧エアー7を吹き出させるべく、ジェットノズル6にエアーイオン化手段S1を備えている。

請求項（抜粋）：

粉粒体の処理を行うために、装置本体の内部下方に前記粉粒体を貯留する処理部を備えると共に、前記処理部に貯留した粉粒体に下方から流動用エアーを供給して流動床を形成するために、前記処理部の下方にエアー吹出部を備え、前記流動床に対して高圧エアーを吹き付けるジェットノズルを備えた粉粒体処理装置であって、前記ジェットノズルからイオン化した高圧エアーを吹き出させるべく、前記ジェットノズルにエアーイオン化手段を備えている粉粒体処理装置。

IPC (6件)：

B01J 19/00 ,  B01J 2/00 ,  B01J 2/16 ,  B01J 8/24 311 ,  B05B 7/14 ,  F26B 17/10

FI (6件)：

B01J 19/00 N ,  B01J 2/00 B ,  B01J 2/16 ,  B01J 8/24 311 ,  B05B 7/14 ,  F26B 17/10 C

Fターム (39件)：

3L113AA07 ,  3L113AB03 ,  3L113AC01 ,  3L113AC05 ,  3L113AC20 ,  3L113AC48 ,  3L113BA02 ,  3L113DA05 ,  3L113DA21 ,  4F033QA08 ,  4F033QB02Y ,  4F033QB05 ,  4F033QB12Y ,  4F033QB15Y ,  4F033QB19 ,  4F033QD25 ,  4F033QF02Y ,  4F033QF07Y ,  4F033QH05 ,  4F033QH10 ,  4G004BA02 ,  4G004KA02 ,  4G004KA03 ,  4G004KA06 ,  4G070AA03 ,  4G070AB02 ,  4G070BA02 ,  4G070BB32 ,  4G070BB37 ,  4G070CB10 ,  4G070CB13 ,  4G075AA27 ,  4G075AA63 ,  4G075BB08 ,  4G075BC08 ,  4G075BD14 ,  4G075BD16 ,  4G075EC01 ,  4G075ED08