特許
J-GLOBAL ID:200903086965958212
金属ナノ粒子の配列蒸着方法及び金属ナノ粒子を用いたカーボンナノチューブの成長方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (4件):
眞鍋 潔
, 柏谷 昭司
, 渡邊 弘一
, 伊藤 壽郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-123509
公開番号(公開出願番号):特開2006-297549
出願日: 2005年04月21日
公開日(公表日): 2006年11月02日
要約:
【課題】 金属ナノ粒子の配列蒸着方法及び金属ナノ粒子を用いたカーボンナノチューブの成長方法に関し、不純物の混入のない金属ナノ粒子を粒径を揃えて且つ任意の位置に配置する。【解決手段】 キャリアガス雰囲気中において金属ターゲットにレーザ光を照射して金属ターゲット材料をレーザ蒸発させてプラズマ化したのち、キャリアガスで冷却して金属ナノ粒子9を生成する工程、生成した金属ナノ粒子9を微分型電気移動度粒径選別器4に導入して粒子移動度の差を利用して特定の粒径の金属ナノ粒子9を選別する工程、所定の形状の開口部パターン3を形成したマスク2を設けた基板1上に選別した金属ナノ粒子9を蒸着する工程、及び、マスク2上に堆積した金属ナノ粒子9をマスク2とともに除去する工程を少なくとも備える。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
キャリアガス雰囲気中において金属ターゲットにレーザ光を照射して金属ターゲット材料をレーザ蒸発させてプラズマ化したのち、前記キャリアガスで冷却して金属ナノ粒子を生成する工程、前記生成した金属ナノ粒子を微分型電気移動度粒径選別器に導入して粒子移動度の差を利用して特定の粒径の金属ナノ粒子を選別する工程、及び、所定の形状のサイズの開口部パターンを形成したマスクを設けた基板上に前記選別した金属ナノ粒子を蒸着する工程、及び、前記マスク上に堆積した金属ナノ粒子をマスクとともに除去する工程を少なくとも備えたことを特徴とする金属ナノ粒子の配列蒸着方法。
IPC (2件):
FI (2件):
B82B3/00
, C01B31/02 101F
Fターム (22件):
4G146AA11
, 4G146AD29
, 4G146BA12
, 4G146BA48
, 4G146BC09
, 4G146BC44
, 4G146DA03
, 4G146DA21
, 5C127AA01
, 5C127BA09
, 5C127BA12
, 5C127BA15
, 5C127BB02
, 5C127BB07
, 5C127CC03
, 5C127DD02
, 5C127DD08
, 5C127DD42
, 5C127DD68
, 5C127EE03
, 5C127EE04
, 5C127EE20
引用特許:
審査官引用 (2件)
-
超微粒子膜パターンの形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-269549
出願人:オムロン株式会社
-
三次元アレイフィルム
公報種別:公表公報
出願番号:特願2001-528479
出願人:コモンウェルスサイエンティフィックアンドインダストリアルリサーチオーガニゼーション
引用文献:
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