特許
J-GLOBAL ID：200903086973385930
帯電不整モザイク半透膜
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
青山 葆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-317799
公開番号（公開出願番号）：特開平5-007745
出願日： 1991年12月02日
公開日（公表日）： 1993年01月19日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、不整構造を有し、かつ巨視的分配のモザイク形成アニオンおよびカチオン電荷を持つ半透過性モザイクポリマー膜並びにその製造方法を提供する。【構成】 本発明の半透膜は、任意に帯電したポリマーの少なくとも1種および該ポリマーの少なくとも1種の不整構造のマトリックスから成ることを特徴とし、(a)任意に帯電したマトリックス形成ポリマーおよび該マトリックス形成ポリマーに不相溶性の先駆物質ポリマーの少なくとも1種の、共通溶剤もしくはその溶剤混合物または異溶剤もしくはその溶剤混合物の溶液を混合して流延溶液を得ることにより、両ポリマーのポリマー相を形成し、(b)該ポリマー溶液を流延して被膜を形成し、(c)該被膜の片面にスキン層を形成し、(d)該スキン層を形成した被膜の沈澱を行って、不整半透膜を形成し、(e)該不整半透膜を化学反応で帯電せしめて、モザイク構造を導入もしくは完成し、次いで(f)必要に応じてマトリックスおよび/または先駆物質ポリマーを架橋することにより製造される。
請求項（抜粋）：
任意に帯電したポリマーの少なくとも1種および該ポリマーに分散した帯電ポリマーの少なくとも1種の不整構造のマトリックスから成ることを特徴とする巨視的分配のモザイク形成アニオンおよびカチオン電荷を持つ半透過性モザイクポリマー膜。
IPC (3件)：
B01D 69/02
, B01D 61/02
, B01D 71/82 500
