特許
J-GLOBAL ID:200903086989886875
極めて低い残留モノマー含量を有する合成ポリマーの製造法、それにより得られた生成物および該生成物の使用
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
矢野 敏雄 (外4名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-522142
公開番号(公開出願番号):特表2001-524556
出願日: 1998年11月13日
公開日(公表日): 2001年12月04日
要約:
【要約】本発明は、残留モノマーの低い含量を有するアクリル酸および/またはアクリル酸誘導体から水溶性もしくは水膨潤性のポリマーを製造する方法に関し、この方法は、重合すべきモノマー溶液に窒素化合物を添加し、その後にポリマーを120〜240°Cの温度で加熱することによって特徴付けられている。その後に、得られたポリマーは、なかんずく凝集剤、分散剤および吸着剤としての使用に適している。
請求項(抜粋):
アクリル酸および/またはアクリル酸誘導体を水溶液中でラジカル重合させることによって水溶性もしくは水膨潤性の合成ポリマーを製造する方法において、ポリマーをモノマー溶液から生成し、この溶液に少なくとも1つの窒素化合物を重合前または重合中にその塩の形で添加し、重合後に生成されたポリマーを120〜240°Cの温度で加熱し、それによって極めて低い残留モノマー含量を有するポリマーを得ることを特徴とする、水溶性もしくは水膨潤性の合成ポリマーを製造する方法。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (41件):
4J100AE13Q
, 4J100AG04P
, 4J100AG04Q
, 4J100AH31Q
, 4J100AJ02P
, 4J100AJ08P
, 4J100AJ09P
, 4J100AL08P
, 4J100AL09P
, 4J100AL62Q
, 4J100AL63Q
, 4J100AL66Q
, 4J100AL67Q
, 4J100AL75Q
, 4J100AL92Q
, 4J100AM02P
, 4J100AM15P
, 4J100AM19P
, 4J100AM21P
, 4J100AM24Q
, 4J100AN13Q
, 4J100AP01P
, 4J100AQ08P
, 4J100AQ20Q
, 4J100BA07P
, 4J100BA31P
, 4J100BA33P
, 4J100BA56P
, 4J100BA65Q
, 4J100BC75Q
, 4J100CA01
, 4J100CA04
, 4J100DA37
, 4J100DA38
, 4J100FA02
, 4J100HB43
, 4J100HC43
, 4J100HC47
, 4J100JA18
, 4J100JA50
, 4J100JA59
引用特許: