特許
J-GLOBAL ID：200903086991745880
シリカ除去装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-283597
公開番号（公開出願番号）：特開平7-136648
出願日： 1993年11月12日
公開日（公表日）： 1995年05月30日
要約：
【要約】【目的】 極低濃度シリカ水を得る。【構成】 SiO2 を含む被処理水2にフッ酸をフッ酸供給装置4によって供給してSiO2 をSiF62- とし、生じたSiF62- を強塩基性アニオン交換樹脂を有するシリカ除去ユニット8で除去して処理水10を得る。
請求項（抜粋）：
少なくとも強塩基性アニオン交換樹脂を有するイオン交換装置、逆浸透膜装置、及び少なくとも強塩基性アニオン交換樹脂を充填してなる電気式脱イオン水製造装置から選ばれる少なくとも1のシリカ除去ユニットと、前記除去ユニットに供給するシリカを含有した被処理水にフッ酸を注入するフッ酸供給装置とからなり被処理水中のシリカを除去して処理水を得ることを特徴とする被処理水中のシリカ除去装置。
IPC (3件)：
C02F 1/42
, C02F 1/44
, C02F 1/469
