特許
J-GLOBAL ID:200903087014254416
有機電界発光素子の垂直蒸着方法,その装置,及びそれに使用される蒸着源
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
亀谷 美明
, 金本 哲男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-297894
公開番号(公開出願番号):特開2005-120476
出願日: 2004年10月12日
公開日(公表日): 2005年05月12日
要約:
【課題】 基板及びシャドーマスクの垂直移送整列及び垂直移動型線形蒸着源を介して,大面積の基板の自重による静的たわみ現象を抑制し,シャドーマスクのステップカバレッジを向上させ,工程チャンバの長さを減らし,粒子による不良を防止し,有機材料の消耗を減らす。【解決手段】 シャドーマスクを垂直状態で移送してローディングし,基板を垂直状態で移送してローディングし,基板及び前記シャドーマスクを垂直状態に整列して合着し,整列/合着されたシャドーマスク/基板のシャドーマスク側で垂直移動型線形蒸着源を垂直方向に移動させながら成膜し,成膜されたシャドーマスク/基板を互いに脱着し,脱着された基板を次の工程チャンバに移送し,後続の基板と脱着されたシャドーマスクを整列/合着工程でリターンさせるように後続の基板を垂直状態で移送してローディングする。【選択図】図2
請求項(抜粋):
シャドーマスクを垂直状態で移送してローディングするシャドーマスクローディング工程と,
基板を垂直状態で移送してローディングする基板ローディング工程と,
前記基板及び前記シャドーマスクを垂直状態に整列して合着する整列/合着工程と,
前記整列/合着されたシャドーマスク/基板のシャドーマスク側で垂直移動型線形蒸着源を垂直方向に移動させながら成膜する成膜工程と,
前記成膜されたシャドーマスク/基板を互いに脱着する脱着工程と,
前記脱着された基板を次の工程チャンバに移送する基板移送工程と,
後続の基板と脱着された前記シャドーマスクを前記整列/合着工程でリターンさせるように後続の基板を垂直状態で移送してローディングする後続の基板ローディング工程と,を含む,
ことを特徴とする有機電界発光素子の垂直蒸着方法。
IPC (4件):
C23C14/24
, C23C14/12
, H05B33/10
, H05B33/14
FI (6件):
C23C14/24 C
, C23C14/24 B
, C23C14/24 G
, C23C14/12
, H05B33/10
, H05B33/14 A
Fターム (14件):
3K007AB18
, 3K007DB03
, 3K007FA01
, 4K029AA11
, 4K029AA24
, 4K029AA25
, 4K029BA62
, 4K029BC00
, 4K029BD00
, 4K029CA01
, 4K029DA12
, 4K029DB06
, 4K029DB17
, 4K029DB23
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