特許
J-GLOBAL ID：200903087015340057
クリーンルーム内の基板保管装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-294495
公開番号（公開出願番号）：特開平11-130210
出願日： 1997年10月27日
公開日（公表日）： 1999年05月18日
要約：
【要約】【課題】 クリーン度の高い状態で基板を保管できる装置を、簡単な構成で安価に、かつ、スペース面で有利に提供する。【解決手段】 装置本体6の外壁に沿うように設けた支持部材20に、鉛直方向に所定間隔を隔てるとともに水平方向に突出する状態で、一対ずつの棚支持部材21を3段設け、その棚支持部材21に、基板を鉛直姿勢で並列載置して収納保持した2個のカセット7を載置する棚22を設ける。装置本体6内の上方にクリーンユニット19を設ける。支持部材20と一対の棚支持部材21と棚22との間に、クリーンユニット19からのダウンフローのクリーンエアを下方に通気する通気空間を形成する。各棚22に、クリーンエアを通す多数の開口を設け、その開口に吸引ファン25を連通接続し、棚22の周囲全体から、棚22に載置されたカセット7内に収納された隣合う基板間にクリーンエアを流す。
請求項（抜粋）：
支持部材に、鉛直方向に所定間隔を隔てるとともに支持部材より水平方向に突出する状態で設けられた複数の棚支持部材と、前記棚支持部材に設けられて電子部品製造用の基板を並列載置する棚と、を備えたクリーンルーム内の基板保管装置であって、前記棚に設けられて、前記基板の周囲に最上部の棚支持部材の上方から流されるダウンフローのクリーンエアを通す開口と、前記開口に接続されてクリーンエアを吸引する吸引圧を付与する吸気手段と、を備え、かつ、前記支持部材と前記棚との間に、ダウンフローのクリーンエアを下方に流す通気空間を形成してあることを特徴とするクリーンルーム内の基板保管装置。
IPC (3件)：
B65G 1/00 521
, F24F 7/06
, H01L 21/68
B65G 1/00 521 D
, F24F 7/06 C
, H01L 21/68 A
